Acide glycolique : Un agent nettoyant et complexant efficace
La fabrication de produits électroniques requiert des matériaux d’une très grande pureté, car la moindre impureté métallique peut gravement endommager les composants sensibles. Dans des applications aussi exigeantes et critiques, le choix de l’agent nettoyant approprié s’impose.
L’acide glycolique est important pour les applications qui exigent un faible niveau d’impureté métallique. Conçu pour nettoyer les substrats de cuivre dans les produits électroniques, l’acide glycolique se base sur des groupes d’acides hydroxyles et carboxyliques pour former des complexes cycliques à cinq éléments (chélates) avec des métaux polyvalents. Cette capacité de complexation facilite le nettoyage des substrats de cuivre afin d’offrir une excellente surface pour les phases suivantes.
L’acide glycolique offre :
- Bonne complexation des ions métalliques
- Faibles taux de corrosion
- Un profil d’ajustement de pH efficace
- Bonnes propriétés environnementales, de sécurité et de manutention
Grade technique standard
L’acide glycolique polyvalent de grade technique à 70 % offre une teneur nulle en chlorure et permet un nettoyage de base des produits électroniques et la préparation de substrats de cuivre. Ces caractéristiques comprennent les fonctions acide et alcool, une toxicité et un taux de corrosion faibles et d’excellentes propriétés d’élimination de la saleté.
Électronique Glyclean™
Cet acide glycolique de grade électronique offre des propriétés de chélation favorables sur les surfaces et les substrats de cuivre dans les applications électroniques. Les applications telles que le procédé de transistor à couche mince (TFT) dans les écrans plats, qui nécessitent un niveau d’impureté métallique de l’ordre du ppm et sont utilisées dans la fabrication de téléviseurs à écran plat, tirent également avantage de cet acide.
Glyclean™ eGA
Glyclean™ eGA facilite et améliore plusieurs formules utilisées dans la fabrication de semi-conducteurs. L’acide glycolique est utilisé pour éliminer les résidus de gravure (tels que les polymères ou les particules) des substrats de tranches de semi-conducteurs. Les substrats sont nettoyés à l’aide d’une solution contenant de l’acide glycolique qui élimine les particules telles que les résidus de résines photosensibles et d’autres saletés.